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LED手动型曝光机的分类特性

作者:红宝石平台首页电子     浏览:     宣布时间:2017-09-11 18:56:00 来源:原创

LED手动型曝光机?是指通过开启灯光发出UVA波长的紫外线,将胶片或其他透明体上的图像信息转移到涂有感光物质的外表上的设备.

[LED手动型曝光机]是指通过开启灯光发出UVA波长的紫外线,将胶片或其他透明体上的图像信息转移到涂有感光物质的外表上的设备.曝光机即电子束曝光机是集电子光学,电气,机械,真空,计算机技术等于一体的繁杂的半导体加工设备.广泛应用于半导体,微电子,生物器件和纳米科技领.


 

LED曝光机一般根据操作的简便性分为三种,手动,半自动,全自动

 

A自动: 指的是 从基板的上载下载,曝光时长和循环都是通过顺序控制,自动光刻机主要是满足工厂关于处理量的需要.

 

B手动:指的是瞄准的调理方法,是通过手调旋钮改变它的X轴,Y轴和thita角度来完成瞄准,瞄准精度可想而知不高了;

 

C半自动:指的是瞄准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐;

[LED手动型曝光机]对光源系统的要求

a.有适当的波长.波长越短,可曝光的特征尺寸就越小;波长越短,就表示光刻的刀锋越尖利,刻蚀关于精度控制要求越高,因为衍射现象会更严重.

 

b.曝光能量必须均匀地散布在曝光区.一般采用光的均匀度 或者叫不均匀度光的平行度等概念来衡量光是否均匀散布,常用的紫外光光源是高压弧光灯(高压汞灯),高压汞灯有许多尖锐的光谱线,经过滤光后使用其中的g 线(436 nm)或i 线(365 nm).

 

c.有足够的能量.能量越大,曝光时间就越短;


 

关于波长更短的深紫外光光源,可以使用准分子激光.例如KrF 准分子激光(248 nm),ArF 准分子激光(193 nm)和F2准分子激光(157 nm)等.

曝光系统的功能主要有:平滑衍射效应,实现均匀照明,滤光和冷光处理,实现强光照明和光强调理等.




 

[LED手动型曝光机]性能指标:

手动型曝光机的主要性能指标有:支持基片的尺寸范畴,区分率,瞄准精度,曝光方法,光源波长,光强均匀性,生产效率等.


 

瞄准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度.曝光方法分为接触接近式,投影式和直写式.

曝光光源波长分为紫外,深紫外和极紫外区域,光源有汞灯,准分子激光器等.


 

区分率是对光刻工艺加工可以抵达的最细线条精度的一种描述方法.光刻的区分率受受光源衍射的限制,所以与光源,光刻系统,光刻胶和工艺等各方面的限制.





 

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